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　　清华大学申请适合激光加工的主副双列浅槽机械密封端面结构专利，该专利技术能同时兼顾密封端面泄漏率低和磨损量小的优点，使用寿命长，适合使用激光加工

　　金融界2024年3月30日消息，据国家知识产权局公告，清华大学申请一项名为“适合激光加工的主副双列浅槽机械密封端面结构“，公开号CN117780934A，申请日期为2023年12月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种适合激光加工的主副双列浅槽机械密封端面结构，包括设置在密封环端面上的呈中心对称分布的双列槽型结构，双列槽型结构包括多个扇形主槽和多个反向槽，多个扇形主槽位于密封环端面的高压侧，每个扇形主槽自高压侧向低压侧收敛，每个扇形主槽包括具有自高压侧向低压侧方向分布的且适合激光加工的多个阶梯槽，每个扇形主槽的深度自高压侧向低压侧方向等间距增大，多个反向槽位于密封环端面的低压侧，每个反向槽的深度不变。本发明能同时兼顾密封端面泄漏率低和磨损量小的优点，使用寿命长，适合使用激光加工。